Bernstein：為什麼台積電強勁的資本支出指引會使ASML在半導體設備公司中受益最多？ 昨天（1月15日），台積電以520-560億美元的強勁資本支出指引超出市場預期。這對所有半導體設備公司來說都是好消息，尤其是對ASML來說，因為先進邏輯的光刻強度很高。我們量化了這對ASML的影響。 台積電的資本支出指引強勁。台積電2026年的資本支出指引為520-560億美元，較2025年中點的408億美元增長32%（見圖1）。收入指引為30%的年增長率，因此資本支出強度仍然高達33%。對先進邏輯的分配增加到70-80%（較去年的70%上升）。這是由於對設備的分配減少，因為台積電需要加快新潔淨室的建設，以應對2028/2029年更強的產能需求。我們得出結論：1. 2026年先進邏輯設備的增長強勁，約為30%；2. 當新潔淨室準備好填充設備時，2028/29年的設備需求將進一步加速。 先進邏輯的光刻強度高於平均水平。 台積電今年的產能增加主要是針對N3和N2，這在光刻強度上非常高，因此比其他公司更有利於ASML。我們估計N3的光刻強度高達約36%，然後在N2略微下降至32%（見圖2）。目前ASML的光刻強度約為25%（見圖3），因此在N3的支出增加對ASML相對於其他工藝更為正面。我們估計，根據台積電的新資本支出指引，ASML來自台積電的收入將同比增長27%。這大大高於市場共識預期，後者僅預示台灣系統銷售將同比增長10%（見圖4）。 僅台積電就可能購買30台EUV……EUV出貨的上行潛力。當我們升級ASML（鏈接）時，我們預測2026年EUV單位出貨62台。客戶反饋認為這個數字太高。現在隨著台積電的資本支出指引，我們認為即使對我們的數字也有上行潛力。根據資本支出，我們看到台積電可能增加120-130k wpm的N3+N2產能（當前模型：100k）。由於每10k wpm需要2.5台N3/N2的EUV機器，這意味著台積電單獨可能需要購買30台EUV機器，這為我們的EUV模型預測提供了上行潛力（見圖5，見圖6）。 $ASML