Bernstein：为什么台积电强劲的资本支出指引会使ASML在半导体设备公司中受益最大？ 昨天（1月15日），台积电以520亿至560亿美元的强劲资本支出指引超出了市场预期。这对所有半导体设备公司来说都是好消息，尤其是对ASML而言，因为在先进逻辑中光刻强度很高。我们量化了对ASML的影响。 台积电强劲的资本支出指引。台积电2026年的资本支出指引为520亿至560亿美元，比2025年中点的408亿美元增长32%（见图1）。收入指引为同比增长30%，因此资本支出强度保持在33%的高位。对先进逻辑的分配增加到70-80%（比去年增加了70%）。这被对设备的分配减少所抵消，因为台积电需要加快新洁净室的建设，以应对2028/2029年更强的产能需求。我们得出结论：1. 2026年先进逻辑设备的增长强劲，约为30%；2. 当新的洁净室准备好填充设备时，2028/29年的设备需求将进一步加速。 先进逻辑的光刻强度高于平均水平。 台积电今年的产能增加主要是针对N3和N2，这在光刻强度上非常高，因此对ASML的益处大于其他公司。我们估计N3的光刻强度高达约36%，然后在N2略微下降到32%（见图2）。目前ASML的光刻强度约为25%（见图3），因此在N3的支出增加对ASML相对于其他工艺更为积极。我们估计，基于台积电的新资本支出指引，ASML来自台积电的收入将同比增长27%。这大大高于市场共识预期，后者仅暗示TW系统销售将同比增长10%（见图4）。 仅台积电就可能购买30台EUV……EUV出货的上行空间。当我们升级ASML时（链接），我们预测2026年EUV单元出货62台。客户反馈这个数字太高。现在随着台积电的资本支出指引，我们认为即使是我们的数字也有上行空间。根据资本支出，我们看到台积电可能增加120-130k wpm的N3+N2产能（当前模型：100k）。由于每10k wpm需要2.5台N3/N2的EUV机器，因此产能的增加意味着台积电可能需要单独购买30台EUV机器，这为我们在EUV模型中的预测提供了上行空间（见图5，见图6）。 $ASML